无金属离子泄露的超纯水抛光系统
U-PUR™
该U-PUR是市场上最简洁，无金属离子泄露的纯水装置，为半导体，医疗和制药行业提供超纯水(UPW)。
传统的抛光系统通常包含由电抛不锈钢制成的紫外线(UV)装置，它通常是氧化金属颗粒污染的来源。U-PUR无金属离子泄露的纯水装置能够去除水中总有机碳(TOC)和微量过氧化氢，其生产的超纯水的纯度远高于传统的系统。
为了满足日益增长的UPW制备需求，Ovivo创建了创新性U-PUR系统——一种无金属离子泄露的纯水装置，它结合了多个抛光步骤来去除水中TOC和微量过氧化氢。U-PUR系统所需管道少，减少了金属离子泄漏的风险，是一种低成本维护的系统。
此外，独立模块设计实现了安装及全球项目执行的灵活性，缩短了项目交付时间。相比传统UPW抛光系统，U-PUR具有更多显著优点，包括:
- 简洁的设计
- 低压力损失，简化的工艺流程 更少的管道，更少的摩擦损失
- 优化电力需求，提高能源效率
- 优化纯水系统投资和运营成本
抛光工艺
紫外线需要一个高反射的表面。虽然电抛光不锈钢具有很高的反射性，但圆柱体焊缝容易氧化而形成氧化铁(铁锈)，因此必须要进行彻底钝化。
理想情况下，所有的焊缝都应该打磨坑洼的表面，然后进行酸洗和钝化。但实际并非总是如此，不锈钢中含有铬、镍和钼，在未彻底钝化时，这些离子会泄露到超纯水中，从而导致水质不合格。
U-PUR系统将UV与混床结合在一起，二者合一使不锈钢不与水接触从而避免金属离子的泄露。这大大的提高了UPW 的产水水质。
近年来，过氧化氢——紫外线的副产物——已经成为很多讨论的话题。Ovivo在U-PUR中加入了一个额外的催化抛光步骤，可去除生成的过氧化氢。标准的二合一工艺可以在轻松升级为三合一工艺，无需更改系统。
U-PUR系统包含三个步骤:
- 紫外线抛光。紫外辐射单元(185和254 nm的LP-Hg灯)将有机化合物(TOC)氧化成羧酸和二氧化碳，使得后续工艺可以更好地去除这些化合物。紫外线装置是由高纯度石英制成，配置对254nm光的自反射涂层。
- 抛光混床。在抛光混床离子交换树脂中，除了去除最后残留的离子外，还去除了由紫外线氧化TOC生成的酸和二氧化碳。使得通过抛光树脂(OvivUP-M020)能够达到TOC < 1ppb。
- 催化抛光。特殊的离子交换树脂(CatOX 8020)用于降解由光化学反应产生的过氧化氢(H2O2.)，以达到< 1ppb H2O2。
U-PUR的处理能力高达50立方米/小时(220加仑/分钟)，是高质量UPW系统的最简洁的解决方案。如需更多信息，请下载技术数据表。
